BANNER
scroll down

エコーの品質

設備製作の細部と技術の精進を重視する

細部を重視し、完璧を目指して努力する

浙江艾科半導体設備有限公司は、半導体チップ及び大型シリコンウエハー生産メーカーに、各工程製造に必要な高精度、高性能の洗浄及びエッチング設備を提供することに特化したの設備製造企業です。

 

 

 浙江艾科は、日本の成熟したハイエンドの洗浄とエッチング装置の設計および製造技術を支持し、設計、製造、設置、試運転から、販売前、販売中、および販売後まで、お客様に合わせた機器を提供します。

 

国内には多くのシリコンウェハー製造工場と良好な取引関係を築いています，中国のハイエンドインテリジェント装備の国産化のプロセスを加速させるために、テクノロジーと力に貢献しています。  

もっと読む

ニュース情報

01-23

2025

新年年会｜新たな一章を共に始める

希望と挑戦に満ちたこの一年、浙江アイコー半導体設備有限公司は、一人ひとりの仲間とともに、恐れを知らずの勇気とたゆまぬ努力で、半導体産業の波涛を力強く切り拓いてまいりました。私たちの成果を祝い、さらに輝かしい未来を展望するため、待ち望んでいた年次イベントをここに迎えました。

09-10

2021

シリコンウェハーの超音波洗浄技術について

半導体材料の製造プロセスでは、どの工程においても洗浄が不可欠であり、洗浄の品質は次の工程に直接影響を及ぼすだけでなく、デバイスの歩留まりや信頼性にも重大な影響を及ぼします。ULSIの集積度が急速に向上し、デバイスの寸法が小さくなるにつれて、ウェハー表面の汚染に対する要求はますます厳しくなっています。ULSIプロセスでは、提供される基板上に付着する不純物が500個/m²×0.12μm以下、金属汚染は10¹⁰原子/cm²未満と定められています。ウェハー製造の各工程で潜在的に存在する汚染は、いずれも欠陥の発生やデバイスの故障を引き起こす可能性があります。そのため、ウェハーの洗浄は専門家から大きな注目を集めています。以前は多くのメーカーが手洗いを行っていましたが、この方法には人為的要因が多く、一方では破片が発生しやすく経済効果が低下するほか、手洗いによるウェハー表面の清浄度が低く、汚染が深刻なため、次の工程である化学研磨・腐食プロセスにおける合格率が低下していました。そのため、ウェハーの洗浄技術への関心が高まり、シンプルで効果的な洗浄方法を見つけることが急務となっています。専門家が提案する超音波洗浄技術は、ウェハーの洗浄効果が顕著であり、広く普及すべきウェハー洗浄技術です。

09-10

2021

ストレージチップのサプライヤーは、半導体市場が2020年に力強い回復を遂げるだろうと予測しています。

半導体業界には顕著な周期性があり、2019年の半導体市場は低水準にありました。さらに貿易戦争の影響も加わり、ストレージチップの価格下落によりサムスンは半導体産業における首位の座を失いました。しかし、台湾の旺宏電子の董事長は、2020年には市場が力強く回復すると予測しています。また同氏は、中国が半導体産業の発展に向けて多額の投資を行ったとしても、人材育成と技術蓄積には少なくとも20年はかかると指摘しました。

中企跨境-全域组件 1.92 制作前进入CSS配置样式

電話：

WeChat：

在线客服添加返回顶部

启用全局默认滚动动画 (向上滚动)

右侧在线客服样式 1,2,3 1

图片alt标题设置： 浙江アイコー半導体設備有限公司

表单验证提示文本： 内容は空にできません！

循环体没有内容时： 申し訳ありませんが、一致する項目が見つかりません。

CSS / JS 文件放置地